解析靶面侵蚀轮廓演化对沉积速率稳定性的长期影响与工程化补偿路径。
解析低高功率脉冲溅射对金属致密化与附着提升机理，给出可复制工艺窗口。
解析低应力镀膜对晶圆尺寸稳定性的机理与工艺窗口，给出可复制路径。
解析大尺寸基片沉积的膜厚均匀性机理与边缘效应补偿路径，给出可复制工艺窗口。
解析基片温控精度对薄膜结晶相与界面扩散的影响路径，给出科研级工艺窗口与检测闭环方案。
