什么是溅射靶？

溅射靶是用于在称为溅射沉积或薄膜沉积的技术中产生薄膜的材料。在此过程中，以固体开始的溅射靶材料被气态离子分解成微小颗粒，形成喷雾并涂覆另一种材料，这被称为基底。溅射沉积通常涉及半导体和计算机芯片的创建。因此，大多数溅射靶材料是金属元素或合金，尽管有一些陶瓷靶可用于为各种工具产生硬化薄涂层。