溅射靶材纯度和均匀性对大面积镀膜的影响
靶材的形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和结合质量极大地影响镀层质量和溅射速率。优质的靶材可以保证良好的薄膜质量，延长Low-E产品的生命周期。更重要的是，它可以降低生产成本，提高生产效率。在这里，我们分享了靶材纯度和材料均匀性对大面积镀膜的影响。
1. 溅射靶材纯度对大面积镀膜的影响
溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的表面玻璃进入高真空镀膜室时。如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话，靶材中的杂质颗粒会在溅射过程中附着在玻璃表面，导致某些位置的膜层不牢固，出现剥离现象。因此，靶材的纯度越高，薄膜的性能就越好。
在对纯度为99.9%的铜溅射靶材的研究中，发现在制备Cu靶材时不可避免地会引入硫和铅。微量S的加入可以防止热加工时晶粒尺寸增大和微裂纹产生的表面粗糙。但是，当S的含量高于18 ppm时，会再次出现微裂纹。随着S和Pb含量的增加，裂纹数量和电弧放电次数增加。因此，应尽量减少靶材中的杂质含量。减少溅射薄膜的污染源，提高薄膜的均匀性。
2. 溅射靶材制备工艺条件的控制
对于热导率较差的靶材，例如sial溅射靶材，往往会因为靶材中的杂质而阻碍热传递。生产中使用的冷却水温度与涂装线实际水温存在差异，导致使用过程中靶材开裂。一般来说，轻微的裂纹不会对涂料生产产生很大的影响。但当靶材有明显裂纹时，电荷很容易集中在裂纹边缘，导致靶材表面异常放电。放电会导致落渣、成膜异常、产品报废增加。因此，在靶材制备和控制纯度的过程中，还要控制制备工艺条件。
3. 溅射靶材均匀性对大面积镀膜的影响
对于合金溅射靶材来说，往往存在材料分布不均的情况。如Si-Al靶材铝团聚，锌铝靶材铝偏析（铝的原子质量比锌的原子质量65少27。铝在浇注后冷却过程中会上浮，导致铝含量高。一侧和另一侧的低铝含量）。由于熔点低，硅铝靶中的团聚铝在溅射成膜时很容易掉渣，而在喷涂过程中加入的铝量是一定的。有的结块表明其他位置的铝含量较少，影响了硅靶的热导率和电导率。所以溅射速率不一致，成膜均匀性差，靶材破裂，靶材放电加剧。它还降低了电影质量。靶材成分的偏析会影响溅射速率（薄膜均匀性）和薄膜成分。因此，除了控制靶材的纯度外，合金靶材的分布也很关键。
发表时间：2022-03-04 16:07
